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P-M是一款将真空式等离子体技术应用于各种不同领域的研究性操作平台，除了实现常规清洁样品和表面改性的功能外，通过添加不同的功能模块，可以实现等离子体镀膜，等离子体合成反应，等离子体纯化等功能。极大的拓展该设备的应用领域。
一、产品原理
P-M是一种非破坏性的表面处理设备，它是利用能量转换技术，在一定真空负压的状态下，以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体，该等离子体以一定能量作用于样品表面，引起分子结构改变和表面形貌的纳米级变化，从而达到对样品表面进行改性和分解污染物的目的。
二、应用范围：
等离子表面处理技术应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。P-M小型等离子表面处理设备以体积小、成本低、操作简便等特点广泛应用于科研及小批量生产场合。
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P-M参数(标准配置) |
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外部尺寸 |
641*533*451mm |
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真空腔尺寸 |
直径215mm*235mm |
不锈钢腔体 |
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电极尺寸 |
120*125mm |
多控自适应平板电极 |
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等离子体发生器 |
RF射频发生器，频率：13.56MHz |
自适应阻抗匹配电源 |
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功率 |
0-200W连续可调 |
精度1W |
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真空计 |
热电偶真空计 0-1000mT |
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供气 |
1路气体 |
6mm国标连接件（软管） |
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控制方式 |
4.3寸触摸屏 |
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可 选 配 置 |
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ALC |
纯铝腔体 |
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RF-300 |
等离子体发生器 |
频率13.56MHz ，0-300W自动阻抗匹配电源 |
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可调电极 |
可调节电极间距 |
电极间距20-60mm可调，改变等离子体场浓度特性 |
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CM装置 |
沉积镀膜模块 |
用于改变表面特性： 1、沉积CF材料，样品表面可以具有憎水的特性 2、沉积含苯材料，样品表面起到绝缘防水的特性 3、沉积含有羟基的材料，提高样品表面和其他材料的结合效果。 |
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GP装置 |
气体纯化装置 |
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PPU |
粉体处理装置 |
用于处理微纳米级别颗粒 |
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气体收集装置 |
用于收集等离子体化学反应后的气体 |
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小型氧气发生器 |
用于制备氧气，可取代氧气罐 |
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气体混合装置 |
可以根据可以要求进行混气设计 |
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感应耦合模块 |
感应耦合等离子体装置 |
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加热电极模块 |
电极可以加热，室温~200度可调。 |
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光谱仪模块 |
可以增加光谱仪的接口，检测等离子体光谱变化 |
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电极转换模块 |
可以自由变换电极设计，样品可以放在射频电极上，也可以放在地电极上。从而实现不同的处理效果。 |
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抽气装置 |
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飞跃 VRD-8 二级油泵 尺寸：495x160x237mm 功率：1000W 抽气速率：8m3/h |
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