去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光，紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题，将直接影响后续工艺的顺利完成。P-MD使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、EMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。
收起/展开产品中心
- 显微熔点仪系列
- 金相显微镜系列
- 生物显微镜系列
- 体视显微镜系列
- 偏光显微镜系列
- 扫描探针显微镜
- 宝石显微镜系列
- 工业视频显微镜
- 光学检测类仪器
- 工具显微镜系列
- 金相制样机系列
- 各类硬度计系列
- 阿贝折射仪系列
- 学生显微镜系列
- 产品合作与开发
- 行业推荐显微镜
- 进口仪器—代理
- 国产仪器一代理
- 二手仪器-销售
收起/展开行业应用
- 粒径统计分析显微镜
- 磨痕划痕测量显微镜
- 炭黑分析检测显微镜
- 一滴血研究分析系统
- 太阳能电池板显微镜
- 水泥熟料分析显微镜
- 改性沥青分析显微镜
- 焊接熔深检测显微镜
- 金属镀层测量显微镜
- 饲料原料检测显微镜
- 建筑材料标准显微镜
收起/展开摄像软件
联系方式
上海公司（总部）
电话：021-31229638 31229639
传真：021-31229639
邮箱：shpzgd@163.com
Q Q：1662367219
地址：上海市松江区洞泾镇沈砖公路5555弄
北京分公司
全天：13601278945
地址：北京市昌平区沙河镇辛力屯村北西路6号B区2103房间
天津办事处
全天：18920418771
13601155230
邮箱：2522294046@qq.com
Q Q：2522294046
地址：天津市南开区新南马路五金城
等离子清洗机
- 产品名称：等离子去胶机P-MD
- 产品型号：P-MD
- 产品规格：直径210mm*230mm
- 产品咨询：
- 上 海：021-31229638
- 北 京：13601155230
- 天 津：18920418771
- 生命科学网：www.shpzgd.com.cn
- 材料科学网：www.pzgdsh.com
- 查看同类产品
产品概述
规格参数
|
P-MD参数(标准配置) |
||
|
外部尺寸 |
641*533*451mm |
|
|
真空腔尺寸 |
直径210mm*230mm |
不锈钢腔体 |
|
电极尺寸 |
125*125mm 间距20-75mm可调 |
二个多控自适应平板电极 |
|
等离子体发生器 |
RF射频发生器，频率：13.56MHz |
自适应阻抗匹配电源 |
|
功率 |
0-200W连续可调 |
精度1W |
|
工艺气体要求 |
1/4英寸卡套接口/15-30psig |
|
|
工艺气体种类 |
CF4=99.97%; O2=99.996%；N2=99.99% |
AR=99.999% 其它气体咨询 |
|
气体控制 |
2路针式气体流量阀 |
0-300ml |
|
控制方式 |
4.3寸触摸屏 |
界面显示实时工作状态 |
|
保护装置 |
一键急停保护按钮 |
|